上海微电子中标长江存储光刻机！其他国产设备如何？光刻机种类繁多，用途各异，以光刻机为代表的产品主要应用于四大领域：芯片制造、芯片先进封装、LED制造、下一代显示屏制造。其中用于芯片先进封装的后道光刻机、LED制造、下一代显示屏制造，技术难度较低，我国已经可以实现国产化量产，比如上海微电子的后道光刻机，上海微电子中标长江存储的光刻机，是主要用于芯片封装的后道光刻设备
上海微电子中标长江存储光刻机！其他国产设备如何？
光刻机种类繁多，用途各异，以光刻机为代表的产品主要应用于四大领域：芯片制造、芯片先进封装、LED制造、下一代显示屏制造。其中用于芯片先进封装的后道光刻机、LED制造、下一《pinyin：yī》代显示屏制造，技术难度较低，我【练：wǒ】国已经可以实现国产化量产，比如上海微电子的后道光(读：guāng)刻机，上海微电子中标长江存储的光刻机，是主要用于芯片封装的后道光刻设备。
但是在芯片产业链中，属于重中之重的前道光刻设备，我们还落后世界先进水平很多，上海微电子的前道设备目前只能实现90nm澳门新葡京工艺制程，主要面向低端前道光刻机市场，当前上微的主要《练：yào》任务是：向可以完成28nm制程的193纳米ArF浸没式DUV光刻机，发起最后的国产化冲击。
前道光刻被荷兰ASML垄断，国产前道光刻机之路漫长修远
光刻机作为前道工艺七大设备之首（光刻机、刻蚀机、镀膜设备、量测设备、清洗机、离子注入机、其他设备），价值含量极大，在制造设备中投资额中，单项占比高达23%，技术要求极高，涉及精密光学、精密运动、高精度环境控制等多项先进技术。光刻机是人类文明的智慧结晶，被誉为半导体工业皇冠上的明珠。
可以说，年产值几百亿美元的半导体设备支撑了年产值几千亿美元的半导体制造产业，而ASML几乎主导了整个高端光刻机(拼音：jī)设备市场[繁：場]。
除了目前可供gōng 台积电三星完成3nm 制程的EUV 光刻机，目前ASML的新《练：xīn》一代极(拼音：jí)紫光刻机也正在商业化中。
台积电和三星电子从7纳米开始在一部分工（练：gōng）程中导入了NA=0.33的EUV曝光设备，并且逐步在5纳米工艺中导入，据说，2纳米以后的超微缩工艺需要更(读：gèng)高解析度的曝光设备、更高的NA化（NA=0.55）。ASML目前已经完成了高NA EUV曝光设备的基本设计（即NXE：5000系列），预计在2022年前后实现量产。
光刻机是国内半[练：bàn]导体的一大关口，要想摆脱受制于人的被动局面，唯有一条路可走，那就是自研自产，这恐怕要以数年时[繁体：時]间为计。要想在光刻机领域破局，是对国家工业技术、工业化能力、基础科研、人才机制、长期价值观（繁：觀）等全方位的考验。
在科技追赶的路上，上海微电子及时变现部分技术，成就了后道光刻机的国产化
同样是光刻机，虽然前道的产业化应用难度非常高，但是原理相同的后道光刻设备，在先进封装时代，其应用越来越广泛，可以说。上海微电子抓住了这个契机。光刻机市场几澳门银河乎被荷兰ASML、日本尼康和佳能、上海微电【练：diàn】子四家所瓜分。尽管上海微电子只拥有低端光刻机市场，但毕竟我们拥有了光刻技术的发展根基。
上微的决策者们在决定以高端光刻机开发为主线的同时，把已经掌握或部分掌握的技术变成产品，切入半导体行业。上微中标长江存储的后道光刻机，就是基于这个思路，“沿途下蛋”各类科技产品。现在上海微电子生产的后道光刻设备，已经在国内相关产业占据了80%的市场份额，我们目前使用的手机中，都有上微自主研发的先进封(拼音：fēng)装光刻技术在发挥【huī】作用。
而之前，后（繁：澳门威尼斯人後）道光刻机则完全依赖于进口的。
其他产业链设备情况如何呢
目前，我国主流设备中，去胶设备、刻蚀设备、热处理设备、清洗设备等的国产化率均已经达到20%以上。
介质刻蚀(繁：蝕)机
介质刻蚀机是我国最具优势的半导体设备。其代表厂商是中微公司、北方华创，以及屹唐半导体。其中，中微半导体在介质刻蚀领域澳门新葡京较[繁：較]强，其产品已在包括台积电，SK海力士、中芯国际等厂商的20多条生产线上实现了量产。该公司5nm等离子体蚀刻机已通过台积电验证，已用于全球首条5nm工艺生产线。
中微半导体的刻蚀机成为我们首先进入世界先进制程的半导（繁：導）体产业链设备。
镀膜设备《繁体：備》
中国设备厂商【拼音：shāng】中，北方华创的薄膜沉积设备产品种类最多，其28nm硬掩膜PVD已实现量产，铜互连PVD、14nm硬掩[练：yǎn]膜PVD、Al PVD、LPCVD、ALD（原子沉积）设备已进入产线验证阶段。
2020年4月，北方华创宣布，其THEORISSN302D型12英寸氮化硅沉（练：chén）积设备进入国内集成电路制造龙头企业。 该设备的交付，意《yì》味着国产立式LPCVD设备在先进集成电路制造领域的应用拓[pinyin：tà]展上实现重大进展。
清洗机《繁体：機》
在中国的单圆片湿法设备厂商中，盛美半导体独家开发的空间交变相位移#28SAPS#29兆声波清洗设备和时序气穴振荡控制#28TEBO#29兆声波清洗设备已经成功进入韩国及中国的集成电路生产线。
北方华创的清洗(拼音：xǐ)设备也已成功进入中芯国际生产线。
量测（繁体：測）设备
测试需（拼音：xū）求贯穿半导体设计《繁：計》、前道制造、后道封装全程。半导体检测的广泛应用以及对良率和成本的重要性，总体检测设备的投资与光刻、刻蚀等关键工艺相差无几。
目前半导体测试设备的国产化率仍不足(读：zú)10%。
国内主要的测试设备商包括华峰测控、长川科技、武汉精鸿等。其中在模拟测试机领域，华峰[繁：峯]测控、长川科技已经占据国内相当一部分市场份额；在存储测试机领域，武汉精鸿【hóng】已经取得长江存储订单；在SoC测试机领域，包括华峰测控等已经在积极布局。
离（繁：離）子注入机
离子注入机领域存在较高竞争壁垒，技术集中度较高，目前主要由美国厂商所垄断。数据显示，在离子注入机市场，美国应用材料（AppliedMaterials）、亚舍立（Axcelis）合计占据全球85%-90%的市场。根据中国国际招标网数据显示，中国本【练：běn】土《读：tǔ》主要晶圆产线的离子注入机国产化率仅为1%。
结语
半导体设备行业被视作半导体芯片制造的基石，擎起了整个现代电子（zi）信息产业，是半导体澳门伦敦人行业的基础和核心。
我们必须正视的现实是：中国大陆芯片制造目前占全球份额的10%左右，而半导体设(拼音：shè)备(繁：備)的全球市场份额只有2%，设备关键零部件的全球市场份额接近于0。
半导体设备厂商目前面临的机遇与挑战并存。从容易的市场做起，先生存，再发展。就像上微的后道光刻设备，在半导体遭遇摩尔定律的《读：de》瓶颈时，先进封装的作用将起到至关重要的作用，后道技术被大厂日渐重视，后道光刻成为上海微电子上攻（pinyin：gōng）前道光刻技术的本钱。
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