低压化学沉积和hé 常压沉积 真空镀膜电源工作原理？

真空镀膜电源工作原理？1、物理气相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法。2、化学气相沉积技术是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供给基体，借助气相作用或基体表面上的化学反应，在基体上制出金属或化合物薄膜的方法，主要包括常压化学气相沉积、低压化学气相沉积和兼有CVD和PVD两者特点的等离子化学气相沉积等

真空镀膜电源工作原理？

1、物理气相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化【pinyin：huà】成原子、分子或使其《拼音：qí》离化为离子，直接沉积《繁：積》到基体表面上的方法。

2、化学气相沉积技术是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供开云体育给基体，借助气相作用或基体表面上的化学反应，在基体上制出金属或化合物薄膜的方法，主要包括[练：kuò]常压化学气相沉积、低压化学气相沉积和兼有CVD和PVD两者特点的等离子化学气相沉积等。

请问CVD（化学气相沉积）的原理及应用？

原理{练：lǐ}

化学气相沉积技术是应（读：yīng）用气态物质在固体(繁：體)上阐述化学[拼音：xué]反应并产生固态沉积物的一种工艺，它大致包含三步：

（1）形（拼音：xíng）成挥发性物质 ；

亚博体育（2）把上述物质转移至沉积区(繁体：區)域 ；

（3）在固体上产生化学反应并产生澳门新葡京固态[tài]物质 。

最基本的化学气相沉积反应包括热分解反应、化学合成反应【yīng】以及[练：jí]化学传输反应等集中。 [1]

特点《繁体：點》

1）在中温或高温下，通过气态的初始化合物之间《繁体：間》的气相化学反[拼音：fǎn]应而形成固体物质沉积《繁：積》在基体上。

2）可以在常压或者真空条件下#28负澳门银河压[繁体：壓]“进行沉积、通常真空沉积膜层质量较好）。

3）采用等离子《pinyin：zi》和激光辅[繁：輔]助技术可以显著地促进化学反应，使沉积可在较低的温度下进行。

4）涂层的化学澳门新葡京成分可以随气相组成的改变而变化huà ，从而获得梯度沉积物或者得到混合镀层。

5）可以控制涂层的密度和涂层纯{繁：純}度。

6）绕镀件好。可在复杂形状的基体上以及颗（读：kē）粒材料上镀膜。适合涂覆各种复杂形状的工件。由于它的绕镀性能好，所以可涂覆带有槽、沟(繁：溝)、孔，甚至是盲孔的工件。

7）沉积{繁体：積}层通常具有柱状晶体结构，不耐弯曲，但可通过各种技术【shù】对化学反应[繁：應]进行气相扰动，以改善其结构。

8）可以通过各种反应形成多种金属、合金、陶瓷和化合物涂层。

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