低压化学沉积和常压沉积 真空镀【练：dù】膜电源工作原理？

真空镀膜电源工作原理？1、物理气相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法。2、化学气相沉积技术是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供给基体，借助气相作用或基体表面上的化学反应，在基体上制出金属或化合物薄膜的方法，主要包括常压化学气相沉积、低压化学气相沉积和兼有CVD和PVD两者特点的等离子化学气相沉积等

真空镀膜电源工作原理？

1、物理气相沉【拼音：chén】积（繁：積）技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表《繁体：錶》面上的方法。

2、化学气相沉积技术是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供给基体，借助气相作用或基体表面上的化学反应，在基体上制出金属或化合物薄膜的方法，主【拼音：zhǔ】要包括常压化学气相沉积[繁：積]、低压化学气相沉积和兼有CVD和PVD两者特点的等离子化学气相沉积等。

请问CVD（化学气相沉积）的原理及应用？

原yuán 理

化学气相沉积技术是应用气（繁：澳门博彩氣）态物质在固体上阐述化学反应并产生固态沉积物的一种工艺，它大致包含三步：

（幸运飞艇1）形[读：xíng]成挥发性物质 ；

（2）把上述物质转（繁：轉）移至沉积区域 ；

（3）在固体上产生化学反应并产生固态物质 。

最基极速赛车/北京赛车本的化学气相沉积反应包括热【练：rè】分解反应、化学合成反应以及化学传输反应等集中。 [1]

特点（繁体：點）

1）在中温或高温下，通过气态的初始化合物《读：wù》之间的气相化学反应而形成固（pinyin：gù）体物质沉积在基体（繁体：體）上。

2）可以在常压或者真空条件下#28负压“进行沉积（繁：積）、通常真空沉(练：chén)积膜层质量较好）。

3）采用等离子和激光辅助技术可以显著地促进娱乐城化学反应，使沉积可在较低的温度下【拼音：xià】进行。

4）涂层的化学成分可以随气相组[繁：組]成{拼音：chéng}的改变而变化，从而获得梯度沉积物或者得到混合镀层。

5）可以控澳门银河制涂层【pinyin：céng】的密度和涂层纯度。

6）绕镀件好。可【拼音：kě】在复杂形状的基体上以及颗粒材料上镀膜。适合涂覆各种复杂形状的工件。由于它的绕镀性能好(练：hǎo)，所以可涂覆带有槽、沟、孔，甚至是盲孔的工件jiàn 。

7）沉积层通常具有柱状晶体结（繁：結）构，不耐弯曲，但可通tōng 过各种技术对《繁体：對》化学反应进行气相扰动，以改善其结构。

8）可以通过各种反应形成多种金属、合金、陶瓷和化合物涂（繁：塗）层。

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