请问CVD（化学气相沉积）的原理及应用？化学气相沉积是一种化工技术，该技术主要是利用含有薄膜元素的一种或几种气相化合物或单质、在衬底表面上进行化学反应生成薄膜的方法。化学气相淀积是近几十年发展起来的制备无机材料的新技术
请问CVD（化学气相沉积）的原理及应用？
化学气相沉积是一种化工技术，该技术主要是利用含有薄膜元素的一种或几种气相化合物或单质、在衬底表面上进行化学反应生成薄膜的方法。化学气相淀积是近几十年发展起来的制备无机材料的新技术。化学气相淀积法已经广泛用于提纯物质、研制新晶体、淀积各种单晶、多晶或玻璃态无机薄膜材料。这些材料可以是氧化物、硫化物、氮化物、碳化物，也可以是III-V、II-IV、IV-VI族中的二元或多元的元素间化合物，而且它们的物理功能可以通过气相掺杂的淀积过程精确控制。
原理（pinyin：lǐ）
化学气相沉积技术是应用气态[繁：態]物质在固体上阐述化学反应并产《繁体：產》生固态（繁：態）沉积物的一种工艺，它大致包含三步：
（1）形成幸运飞艇挥发性物(pinyin：wù)质 ；
（2）把上《shàng》述物质转移至沉积区域 ；
（3）在【读：zài】固体上产生化学反应并产生固态物质 。
最基本的化学气相沉积反应包括热分解反应、化学合成反应以及化学传输反应等集澳门银河中{读：zhōng}。 [1]
特点
1）在中温《繁体：溫》或高温下，通过气态的初始化合物之间（繁：間）的气相化学反应而形《读：xíng》成固体物质沉积在基体上。
2）可以在[读：zài]常压或者真空条件下#28负压“进行沉（pinyin：chén）积、通常真空沉积膜层质量较好）。
3）采用等离（繁体：離）子和激光辅助技术可以显著地促进化【读：huà】学反应，使沉积可在较低的（练：de）温度下进行。
4）涂层的化学成分可以《yǐ》随气相组成的改变而变化，从而获得梯度沉积物澳门博彩或者得到混合镀层。
5）可以控制涂层的密[p澳门金沙inyin：mì]度和涂层纯度。
6）绕镀件好。可在复杂形状的基体上以及颗粒材料上镀膜。适（繁体：適）合涂覆各种复杂形状的工件。由于它的绕镀性能好澳门新葡京，所以可涂覆带有槽、沟、孔，甚至是盲孔的工件。
7）沉积层通常具有柱状晶体结构，不耐弯曲，但可通过各种技术对化学反应进行气相[读：xiāng]扰(繁体：擾)动，以改善其结构。
8）可以通过各种反应形成多种金属（繁：屬）、合金、陶瓷和化合物涂层。
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