常压（繁体：壓）化学气相沉积的优缺点 请问CVD（化学气相沉积）的原理及应用？

请问CVD（化学气相沉积）的原理及应用？化学气相沉积是一种化工技术，该技术主要是利用含有薄膜元素的一种或几种气相化合物或单质、在衬底表面上进行化学反应生成薄膜的方法。化学气相淀积是近几十年发展起来的制备无机材料的新技术

请问CVD（化学气相沉积）的原理及应用？

原世界杯《yuán》理

化学气相沉积技术是应用气态物质在固体上阐述化学反应并产《繁体：產》生固态（繁：態）沉积物的一种(繁体：種)工艺，它大致包含三步：

（1）澳门威尼斯人形成挥发性[pinyin：xìng]物质 ；

（2）把上述物质(繁体：質)转移至沉积区域 ；

（3）在固体上产生化学反应并（繁体：並）产生固态物质 。

最基（pinyin：jī）本的化学气相沉积反应包括热分解反应、化学合成反应以及化学传输反应等集[读：jí]中。 [1]

特点（繁：點）

1）在中温或高温下，通过气态的初始化合物之间的气相化学(繁体：澳门巴黎人學)反应而形成固体物质沉积在基体上。

2）可以在常压或（pinyin：huò）者真空条件下#28负压“进行沉积、通常（练：cháng）真空沉{拼音：chén}积膜层质量较好）。

3）采用等离子和激光辅助技术可以显著地促进化《huà》学反应，使沉积可在较低的温(繁体：溫)度下进行。

4）涂层的化学成分可以随气相组成的改变而变化，从而获得梯度沉积物或者得到混合镀层。

5）可{拼音：kě澳门新葡京}以控制涂层的密度和涂层纯度。

6）绕镀件好。可在复杂形状的基（练：jī）体上以及颗粒材料上镀膜。适合涂覆各种复杂(繁体：雜)形状的工件【读：jiàn】。由于它的绕镀性能好，所以可涂覆带有槽、沟、孔，甚至是盲孔的工件。

7）沉积层通(pinyin：tōng)常具有柱状晶体结构，不耐弯曲，但可（pinyin：kě）通过各种技术对化学[繁：學]反应进行气相扰动，以改善其结构。

8世界杯）可以通过各种反应形成多种（繁体：種）金属、合金、陶瓷和化合物涂层。

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