透射电镜和扫描电镜有什么相同和不同之处，各自主要应用在何种目的？扫描电镜和透射电镜都是看物体形貌的材料测试手段，不同的是扫描电镜收集的是二次电子也就是电子束反射回来的信息，透射电镜收集的是电子束透过的信息
透射电镜和扫描电镜有什么相同和不同之处，各自主要应用在何种目的？
扫描电镜和透射电镜都是看物体形貌的材料测试手段，不同的是扫描电镜收集的是二次电子也就是电子束反射回来的信息，透射电镜收集的是电子束透过的信息。透射电镜的分辨率要比扫描电镜大，同时透射电镜还可以检测物质的相结构已经晶型（多晶，单晶），而扫描电镜不可以扫描电镜与透射电镜检测方法的用途？
扫描电镜的电子束不穿过样品，仅在样品表面扫描激发出二次电子。获得图像为立体形象，反映标本的表面结构。因此扫描电镜标本无需制成薄片。透射电镜的电子束通过样品后由物镜成像于中间镜上，再通过中间镜和投影镜逐级放大，成像于荧光屏或照相干版上，分辨的细微物质结构；因此澳门伦敦人能在看{练：kàn}到表面的图象的同时也看到内层物质。标本必须制成超薄切片（50～100nm）。
简而言之，扫描电镜观察的是样品表面的形态，而透[练：tòu]射电镜是观察样品结构形澳门伦敦人态的。两者大体上结构一样，只是程序原理上不尽相同。一般情况下，透射电镜放大倍数更大，真空要求也更高。
扫描电镜和透射电镜分析的区别？
1、结构差异:；主要体现在样品在电子束光路中的位置不同。透射电镜的样品在电子束中间，电子源在样品上方发射电子，经过聚光镜，然后穿透样品后，有后续的电磁透镜继续放大电子光束，最后投影在荧光屏幕上扫描电镜的样品在电子束末端，电子源在样品上方发射的电子束，经过几级电磁透镜缩小，到达样品。当然后续的信号探侧处理系统的结构也会不同，但从基本物理原理上讲没什么实质性差别。；2、基本工作原理:；透射电镜：电子束在穿过样品时，会和样品中的原子发生散射，样品上某一点同时穿过的电子方向是不同，这样品上的这一点在物镜1-2倍焦距之间，这些电子通过过物镜放大后重新汇聚，形成该点一个放大的实像，这个和凸透镜成像原理相同这里边有个反差形成机制理论比较深就不讲，但可以这么想象，如果样品内部是绝对均匀的物质，没有晶界，没有原子晶格结构，那么放大的图像也不会有任何反差，事实上这种物质不存在，所以才会有这种仪器存在的理由。；扫描电镜：电子束到达样品，激发样品中的二次电子，二次电子被探测器接收，通过信号处理并调制显示器上一个像素发光，由于电子束斑直径是纳米级别，而显示器的像素是100微米以上，这个100微米以上像素所发出的光，就代表样品上被电子束激发的区域所发出的光。实现样品上这个物点的放大。如果让电子束在样品的一定区域做光栅扫描，并且从几何排列上一一对应调制显示器的像素的亮度，便实现这个样品区域的放大成像
；3、对样品要求；(1)扫描电镜；SEM制样对样品的厚度dù 没有特殊要求，可以采用切、磨、抛光或解理等方法将特定剖面呈现出来，从而转化为可以观察的表面。这样的表面如果直接观察，看到的只有表面加工损伤，一般要利用不同的化学溶液进行择优腐蚀，才能产生有利于观察的衬度。不过腐蚀会使样品失去原结构的部分真实情况，同时引入部分人为的干扰，对样品中厚度极小的薄层来说，造成的误差更大。；(2)透射电镜；由于TEM得到的显微图像的质量强烈澳门金沙依赖于样品的厚度，因此样品观测部位要非常的薄，例如存储器器件的TEM样品一般只能有10～100nm的厚度，这给TEM制样带来很大的难度
初学者在制样过程中用手工或者机械控制磨制的成品率不高，一旦过（读：guò）度削磨则使该样品报废。TEM制样的另一yī 个问题是观测点的定位，一般的制样只能获得10mm量级的薄的观测范围，这在需要精确定位分析的de 时候，目标往往落在观测范围之外。目前比较理想的解决方法是通过聚焦离子束刻蚀(FIB)来进行精细加工(练：gōng)。；扩展资料：；透射电子显微镜的成像原理 可分为三种情况：；（1）吸收像：当电子射到质量、密度大的样品时，主要的成相作用是散射作用
样品上质量厚度大的地方对电子的散射角大，通过的电子澳门金沙较少，像的亮度较暗。早期的透射电子显微镜都是基于这种原理。；（2）衍射像：电子束被样品衍射后，样品不同位置的衍射波振幅分布对应于样品中晶体各部分不同的衍射能力，当出现晶体缺陷时，缺陷部分的衍射能力与完整区[繁：區]域不同，从而使衍射波的振幅分布不均匀，反映出晶体缺陷的分布。；（3）相位像：当样品薄至100Å以下时，电子可以穿过样品，波的振幅变化可以忽略，成像来自于相位的变化
；参[繁体：蔘]考资料：百度百科-幸运飞艇扫描电镜；百度百科-透射电镜
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